氧化铈抛光液 氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。 适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是可以在整个硅圆晶片上平坦化的工艺技术。

蜡乳液是天然蜡与合成蜡等材料在乳化剂的作用分散于水中的一种多相体系的乳液，制备方法主要是相转化的乳化法。 低熔点的蜡可赋予皮革表面蜡感，适度封闭粒面伤残，还可改善皮堆积性，防止熨烫或压花时粘板。熔点较高的蜡乳液，则能赋予高光泽，可抛光，透明度，能用于苯胺涂饰。

蜡乳液可与加脂剂复配 在加脂剂中复配少量的乳化蜡改善和提高加脂剂的效果，通过试验证明，向皮革加脂剂中复配1% ～ 5%的蜡乳液，可提高加脂剂的填充性能，提高加脂剂在皮纤维中的渗透性能，增加皮革的防水性能，使皮革手感滑爽、柔软、丰满。