小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD

是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。

正空蒸发镀膜包括以下基本过程：（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。

（3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远

低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。

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以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图

原样品没有镀膜

115A 100秒 机械泵

115A 100秒 分子泵抽12分钟

115A 120秒 分子泵抽20分钟

真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色

技术参数

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

加热方式

数字式功率调整器

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1200W

输出电压电流

电压≤12V 电流≤120A

真空度

机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm

样品台

可旋转φ62 （可安装φ50基底）

样品台转速

8转/分钟

样品蒸发源调节距离

70-140mm

蒸发温度调节

≤1800℃

支持蒸发坩埚类型

钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳

预留真空接口

KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口

可选配扩展

机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa）

数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）

分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）